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Chemical precision
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HYOSUNG Neochem

根据半导体、显示器技术动向
提供材料Solution

为了根据半导体及显示器客户的技术路线图，先行提供材料解决方案，研究所、营销、生产组织正有机地联系起来，机敏地行动着。

多种多样的产品种类
以及构建稳定的供应链

作为全球特殊气体供应公司，正供应各种产品，使生产基地多元化，构建稳定的供应体系。

以卓越的技术能力为基础
开发特殊气体材料

通过Neochem独家技术开发和不断研究，自主开发出高纯度NF3，拥有20%F2/N2、氘气（D2）、氯化氢（HCl）、氯气（Cl2）等各种特殊气体组合。

  • 供应稳定性

    在龙渊、玉山、衢州（中国）等开设独立工厂，稳定的供应产品

  • 独家源头技术

    电解槽及高纯度F2技术、气体相关防腐蚀及安全制造技术、合成及超低温精炼与吸附技术

  • 高品质及多样的产品群

    高品质及多样的产品群、5N（99.999%）的高品质NF3、20% F2/N2、Cl2、HCl、D2等多样的产品群

优点

  • 稳定的供应体系

  • 自主开发

  • 高品质产品

NF3

NF3（三氟化氮）的主要原料为氢氟酸和氨，通过电解反应和超低温纯化工艺制得
5N（99.999%）高纯度产品。
NF3主要用于半导体和显示器制造过程中的CVD Chamber清洁和半导体蚀刻。

  • 为了加强安全及品质而基于智能工厂的NF3生产设备

    Neochem NF3生产工艺引入智能工厂技术，能早期检测设备异常情况，实时监控工艺和质量数据，运行稳定，无安全事故，品质保持最佳。

    通过这种尖端技术生产出的高纯度产品，其品质和供应稳定性得到认可。目前，不仅供应给韩国主要半导体、显示器客户，还供应给中国台湾、日本、美国、欧洲、东南亚等海外客户。

优点

下面介绍一下具有供给稳定性和优良品质的NF3独有的优点。

  • 供应稳定性

  • 99.999%高纯度

20% F2/N2

通过电解法生产高纯度的F2气体，将其与高纯度的N2混合，自产高纯度的20%F2/N2。
20% F2/N2正用于半导体LP_CVD（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）设备的Chamber清洁。

  • 拥有F2混合气体制造能力

    对氢氟酸电解反应生产F2时产生的几种杂质，采用超低温纯化工艺（Cryogenic Distillation），制造出99.999%的F2，并利用自动化搅拌设备将由此生产的高纯度F2和N2生产成浓度均匀的20%F2/N2产品。

优点

下面介绍一下品质卓越的20% F2/N2独有的优点。

  • 99.999%高纯度

  • 浓度均匀的产品

其他高纯气体

目前拥有采用Neochem独家技术开发的重氢（D2）气体及其他高纯气体商品（Cl2、
HCl），计划持续增加各种产品组合。

  • Cl2, HCl

    通过与半导体客户共同探讨国策课题，从日本进口的特殊气体产品已成功实现国产化，在韩国半导体工艺中用于Si的蚀刻。

  • D2

    以战略物资重水（D2O）为原料，采用Neochem PU独有的电解技术，在韩国首次成功实现国产化。D2用于半导体晶片和光缆热处理工艺，可延长寿命，提高性能。

优点

下面介绍一下韩国国产化及高品质的其他高纯特殊气体的优点。

  • 替代进口, 进行韩国国产化

  • 优良的品质

质量认证

  • ISO 9001 and 14001

    ISO 9001 and 14001

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